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| 產地類別 | 國產 | 加熱方式 | 硅碳棒 |
|---|---|---|---|
| 價格區間 | 1萬-2萬 | 控溫精度 | 1℃ |
| 內部尺寸 | 300-200-120mm | 升溫速度（達到最高溫） | 60/min |
| 儀器種類 | 真空爐 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,生物產業,綜合 |
| 最大功率 | 4000kW | 最高溫度 | 1400℃ |
產品簡介
詳細介紹
適用范圍
本設備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。
密真空氣氛爐真空氣氛系統：
真空密封系統采用特種設計技術，具有操作安全、方便、真空度高，密封性好，真空保持時間長，密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封，氣體經過流量計后由針型閥開關進入爐管內，閥控配有進氣閥，排氣、抽真空閥。減壓閥，安全閥，可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體，可充入高壓氣體，氣氛壓力限值0.1MPa，采用*的密封技術，可長時間保壓，安全性能好，操作方便。
密真空氣氛爐主要技術參數：
項 目 | 單位 | 有效使用尺寸 | 有效使用尺寸 | 有效使用尺寸 | 有效使用尺寸 | |||||
爐膛尺寸 | mm | 200X150X150 | 300X200X200 | 500X300X200 | 500X500X500 | |||||
溫度類別 | ℃ | 1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃ | ||||||||
控制度 | ℃ | ±1℃ | ||||||||
溫度均勻度 | ℃ | ≤1 | ≤1℃ | ≤1.5℃ | ≤2℃ | |||||
加熱元件 |
| 根據溫度而定，采用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。 | ||||||||
電壓/頻率 | AC/Hz | 220/50 | 380/50 | 380/50 | 380/50 | |||||
設計功率 | KW | 4 | 10 | 15 | 25 | |||||
溫控方式 |
| 微電腦智能調節技術，具有PID調節、全自動控制、自整定功能，多段程序編程，并可編制各種升溫、保溫、降溫程序，控溫度高；集成模塊可控硅控制、移相觸發。 | ||||||||
保護裝置 | 獨立超溫保護、超壓、超流、漏電、短路等保護，自動化程度較高， | |||||||||
主要附件 | 高溫手套，坩堝鉗，發熱元件，門堵，合格證，說明書，質保書。 | |||||||||
可選配 | 無紙記錄儀，有紙記錄儀，電腦液晶觸摸屏，人機畫面 | |||||||||
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