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　　進(jìn)階增材制造微納光學(xué)技術(shù)：
 

　　Nanoscribe的高精度3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)幾乎任何三維結(jié)構(gòu)的打印制作，并同時(shí)具備光學(xué)質(zhì)量表面。這有效規(guī)避了機(jī)械工具所施加的限制以及減材制造常見的幾何或工藝設(shè)計(jì)局限?？梢詫?shí)現(xiàn)打印單個(gè)微透鏡，自由曲面光學(xué)器件和復(fù)合透鏡系統(tǒng)等，無需對(duì)單個(gè)組件進(jìn)行打印后在組裝起來。
 

　　Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上高分辨率的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，超高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。
 

　　Nanoscribe公司的的IP系列光刻膠配合使用并制作高級(jí)微納光學(xué)器件。
 

　　IP-S光敏樹脂非常適合打印具有高形狀精度，光學(xué)質(zhì)量表面的微納結(jié)構(gòu)，例如，用IP-S可以滿足打印優(yōu)于1 µm形狀精度和小于10 nm Ra 表面粗糙度微透鏡陣列。此外，新型IP-n162光敏樹脂具有高折射率(1.62)和高阿貝數(shù)(25)的特點(diǎn)，其光學(xué)性能可與常規(guī)用于注塑成型的光學(xué)聚合物(例如聚碳酸酯和聚酯等)相媲美。這種材料可以用于微納光學(xué)原型制作，從而避免了耗時(shí)昂貴的金剛石研磨注模迭代。
 

　　Nanoscribe Photonic Professional GT2高精度3D打印機(jī)使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。
 

　　Photonic Professional GT2高精度3D打印機(jī) 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性，以及廣泛的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。