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無掩膜光刻機-器件快速原型制作的理想工具
傳隨著電子通信行業的飛速發展,集成電路產業的需求呈現出爆炸式增長的趨勢,光刻技術已成為如今集成電路制造領域的核心技術。
傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻系統通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。不僅是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。
無掩膜光刻是從傳統光學光刻技術衍生出的一種新技術，因為其曝光成像的方式與傳統投影光刻基本相似，區別在于使用數字DMD代替傳統的掩膜，其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中，并根據圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉角，并通過準直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面，并通過控制樣品臺的移動實現大面積的微結構制備。
無掩膜光刻機應用：
1、薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。
2、從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。
3、研發應用的圖案形成。