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美國kimball physics EGH-6210電子槍系統
美國kimball physics EMG-4193電子槍系統
美國kimball physics EGPS-1011電子槍系統
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源,針對高輸出電流進行了優化 應用于逆UPS,EELS等電子碰撞實驗。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍
低于10 meV的能量分辨率可通過能量調節
在20 meV能量分辨率下,典型輸出電流> 10 nA
單通道雙聚焦單色器,具有空間電荷優化功能
5元素變焦鏡頭/轉移鏡頭,適用于長工作距離
整體磁屏蔽
電子槍是產生、加速及會聚高能量密度電子束流的裝置,它發射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的電子束,又稱電子注。電子槍的應用有非彈性電子散射和熒光屏發光等等。
在電子槍里,燈絲,一般是鎢絲,通電加熱后,表面產生大量的熱電子,在陽極和陰極之間的高壓電場作用下,熱電子加速向陽極方向高速移動,并獲得很高的動能。其具體速度值取決于加速電壓的高低,一般可以達到光速的三分之二左右。在聚焦線圈的作用下可使電子束流聚焦,在導向線圈,又稱偏轉線圈的作用下可使電子束發生偏轉,從而在一定范圍內進行掃描。電子槍的工作電壓通常在幾十到幾百千伏之間,為防止高壓擊穿、束流散射及其能量減損,電子槍的真空度須保持在6.67x10^-2帕以上。
材料的選擇對電子槍的發射能力和壽命有決定作用。燈絲必須選用熔點高、電阻率大的材料,一般是用鎢絲制成的,通過強電流后,燈絲被加熱到一千度以上。陰極必須選用逸出功低的材料,陰極表面原子的外層電子,受到一定的熱能或電能的激勵后,會脫離原子核的束縛越出軌道而成為自由電子。
選用氧化物作為材料,氧化物陰極的逸出功更低,例如氧化鋇的逸出功只有2.8電子伏,但其耐蝕性差,一般只適宜在10-5-10-6毫米汞柱的高真空下工作,在10-4毫米汞柱時,其發射本領顯著下降,在10-3毫米汞柱下工作時,甚至會嚴重地受空氣侵蝕。
選用鎢絲作為材料,其逸出功為4.55電子伏,在工作溫度為2500K時,J=0.5安/厘米2。鎢絲的熔點為3655K,在工作溫度為2750K時,蒸發率為0.0043毫克/厘米·秒,鎢絲的耐侵蝕性較強。
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