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目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>低真空鍍膜機>> VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀
  • VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
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  • 品牌
  • 型號
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 北京市
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更新時間:2024-03-07 22:50:04瀏覽次數:350評價

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產品簡介:VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸,樣品臺與濺射頭之間的高度在30-80mm之間可以調節

 

 

 

 

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產品簡介: VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸, 樣品臺與濺射頭之間的高度在 30-80mm 之間可以調節。安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射。濺射頭對樣品的濺射時間在1-120s 之間可調,若想獲得薄的薄膜,濺射時間可以設置短一點img4若想獲得厚的薄膜,濺射時間可以長一點。VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀設計主要是制作一些金屬薄膜制膜面積可達到4英寸。設備外 形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。

 

產品名稱

VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀

產品型號

VTC-16-D

 

 

主要特點

1 、特別為 SEM 樣品鍍導電性薄膜設計。

2、體積小巧,操作簡單,容易上手。

3、擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。

 

1、輸入電源: 220V AC 50/60Hz

2、功率: 200W

3、輸出電壓: 500 VDC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技術參數

4、濺射電流: 0-50 mA 可調

5、濺射時間: 0-120S 可調

6、濺射腔體

1)采用石英腔體,尺寸: 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封: 采用不銹鋼平法蘭的 O 形密封圈

7、濺射頭&樣品臺

l)濺射頭可安裝靶材直徑為 2 英寸, 厚度 0.1 - 2.5mm

2)濺射時間 1-120S 可調

3)儀器中安裝有直徑為 50mm 的不銹鋼樣品臺, 其與濺射頭之間距離 30-80mm 可調。

4)可選購加熱型樣品臺,其加熱溫度可達 500℃

5)安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射

6)制膜的直徑可達:4 英寸(僅供參考,詳情請點擊)

 

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8、真空系統

l)安裝有 KF25 真空接口 2)數字真空壓力表(Pa 3)此系統可通入氣體運行

4< 1.0E-2 Torr    (采用機械泵)

5< 1.0E-5 Torr  (采用渦旋分子泵)

9、進氣

l)設備上配 1/4 英寸進氣口,方便連接氣瓶

2)設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流

10、靶材

l)靶材尺寸要求: Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

2)設備標配為銅靶

11、產品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

 

 

 

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