拓荊科技股份有限公司主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。

公司通過在薄膜沉積設備這一半導體核心設備細分領域的積累和快速發(fā)展，已經成為國內半導體設備行業(yè)的企業(yè)，三次獲得中國半導體行業(yè)協會頒發(fā)的“中國半導體設備五強企業(yè)”稱號。公司設備以優(yōu)異的薄膜性能、具有競爭力的生產成本、高效的售后服務，贏得了廣泛的市場空間。目前，公司已形成覆蓋二十余種工藝型號的薄膜沉積設備，滿足下游客戶晶圓制造產線多種薄膜沉積工藝需求，公司產品已廣泛用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲等國內主流晶圓廠產線。