手機版
化工儀器網手機版
化工儀器網小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關注視頻號
勻膠旋涂儀是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。該設備主要用于晶片涂光刻膠。
勻膠旋涂儀的使用步驟：
1、開機前準備：清理殘余物，選擇合適的吸盤，并將樣品放在吸盤正中央。
2、開機與設定：打開電源，設定涂布的時間和轉速，并啟動真空吸附。
3、涂布：滴加光阻劑，并啟動涂布過程。
4、完成涂布后，關閉真空和電源，取下樣品。
本公司提供的L2001勻膠旋涂儀操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結構小巧緊湊，占地面積小，節省超凈間的使用面積，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象，影響涂層的均勻性。
免責聲明
- 凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。
采購中心