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光學(xué)平臺主要應(yīng)用到哪些區(qū)域

來源:北京甄耀言科技有限公司   2024年08月27日 10:34  
學(xué)平臺,又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、實驗平臺,供水平、穩(wěn)定的臺面,主要應(yīng)用于精密光學(xué)實驗、顯微成像、醫(yī)療生物、光路測試、光學(xué)測量、激光干涉、精密檢測,對振動具有較高要求的實驗系統(tǒng)。一般光學(xué)平臺都需要進行隔振等措施,保證其不受外界因素干擾,使科學(xué)實驗正常進行。目前來說,有主動隔振平臺與被動隔振平臺兩大類。而被動又有橡膠隔振與氣浮隔振平臺兩大類。
 
  光學(xué)平臺指的是一種用于進行光學(xué)實驗和研究的基礎(chǔ)設(shè)施,可以提供一個穩(wěn)定且可重復(fù)的光學(xué)環(huán)境。通常包括支架、支撐結(jié)構(gòu)、光學(xué)元件和運動部件等組成部分。光學(xué)平臺有助于研究人員快速搭建實驗系統(tǒng)和進行精密測量,同時也能幫助工業(yè)生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制和產(chǎn)品檢測。
 
  光學(xué)平臺的臺面通常通過隔振技術(shù)來實現(xiàn)其穩(wěn)定性,這些技術(shù)包括被動隔振和主動隔振兩大類。被動隔振主要依賴材料的物理特性來吸收和耗散振動能量,如使用橡膠墊或氣浮系統(tǒng)等。而主動隔振則采用傳感器、控制器和執(zhí)行器等組件,實時監(jiān)測并主動抵消環(huán)境振動。
 
  大多數(shù)光學(xué)實驗或工業(yè)生產(chǎn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準確性,嚴重干擾生產(chǎn)和實驗的進行。振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動。地面固有振動,工作人員踩踏地板以及開、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動,這一類振動需通過光學(xué)平臺的隔振腿衰減;而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動、氣流、冷卻水流等,則需依靠平臺的桌面阻力來隔絕。
 
  光學(xué)平臺還廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域,以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中。


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