化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>電子束刻蝕系統(tǒng)>亞科 Electron Beam Lithography System(EB...
亞科 Electron Beam Lithography System(EBL)
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 亞科
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/9/25 15:33:43
- 訪問次數(shù) 1262
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產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 150萬-200萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
超高分辨率電子束光刻EBL
系列采用專業(yè)的恒溫控制系統(tǒng),使得整個主系統(tǒng)的溫度保持恒定,再加上主系統(tǒng)內(nèi)部精密傳感裝置,使得電子束電流穩(wěn)定性,電子束定位穩(wěn)定性,電子束電流分布均一性都得到了的提高,其性能指標(biāo)遠遠高于其它廠家的同類產(chǎn)品,在長達 5 小時的時間內(nèi),電子束電流和電子束定位非常穩(wěn)定,電子束電流分布也非常均一。
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是好的方法之一。司為21世紀(jì)先進納米科技提供 的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。
超高分辨率的電子束光刻系列的型號包括:
技術(shù)參數(shù):
加速電壓:高130keV
單段加速能力達到130keV,盡量減少電子槍的長度
超短電子槍長度,無微放電
電子束直徑<1.6nm
小線寬<7nm
雙熱控制,實現(xiàn)超穩(wěn)定直寫能力