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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>其它消解設備>Centrotherm RTP 150 Centrotherm 快速熱工藝設備-RTP 150

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Centrotherm RTP 150 Centrotherm 快速熱工藝設備-RTP 150

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 Centrotherm RTP 150
  • 產地 德國
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/9/25 16:17:58
  • 訪問次數 1197

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公司自成立以來就一直專注于半導體、微組裝和電子裝配等領域的設備集成和技術服務;目前公司擁有一支在半導體制造、微組裝及電子裝配等領域經驗豐富的專業技術團隊,專業服務于混合電路、光電模塊、MEMS、先進封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設備,還能根據客戶的實際生產需求制訂可行的工藝技術方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導體制造設備企業建立了良好的合作關系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進的設備和專業的技術服務打下了堅實基礎。

 

半導體設備,微組裝設備,LTCC設備,化工檢測設備

產地類別 進口 應用領域 電子

Centrotherm 快速熱工藝設備-RTP 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商,尤其在高溫設備領域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速熱工藝設備,主要用于滿足研發和小規模量產所需的多種工藝要求。

 

RTP 150型快速熱反應設備,采用緊湊型的真空腔室設計滿足多種工藝需要,是一款可用于生產和研發用的單晶圓工藝設備。

RTP 150型設備包括一個帶集成壓力學習控制壓力范圍在1mbar至50mbar的真空腔室。采用燈管加熱系統提供了可調節的加熱均勻性控制,采用了CENTROTHERM公司技術的溫度控制系統。

RTP系統可用于6寸晶圓和5寸石墨基板的加熱。可在15分鐘內更換基板的尺寸和類型。

設備用于高性能、小占地面積、低成本高工藝靈活性的工藝場合。

 

設備特點:

壓力可控的真空或大氣環境下工作

高靈活性:最大6寸硅片或其他材料

溫度范圍:20℃~1150℃

*加熱的工藝溫度可達 750℃



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