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PLUTO-M型等离子表面处理机PX 1961
AC200-customizationAC200衍生机(定制)/自动匀胶显影机PX 5082
SYSC-300高精度程控匀胶机 旋.PX 3211
TD-A280D优质匀胶机 旋涂仪 烘胶台 烤胶机PX 2261
520HE 纳米压印透镜三维压印机PX 2695
HMS-901HS晶圆烤胶机(光刻)PX 2589
MHY-29071自动滴胶匀胶机PX 2920
AS-11SUGIYAMA杉山电机振动传感器PX 2257
PR-3离子去胶机PX 2983
电镜制样超薄切片机PX 1350
EVG610纳米压印光刻系统PX 7172
C-43型 9英寸国产光刻机PX 3768
PALET DDB-701无掩膜光刻系统PX 2844
plasma等离子去胶机 清洗活化改性设备PX 1954
Nikon S207D扫描式光刻机PX 1800
L20001英国Ossila-Spin CoaterPX 4093
匀胶机、旋涂仪(德国产、高性能)PX 2743
FPUPN-NANOONE微纳米3D打印机,多光子光刻PX 3486
PPS-8200p1/8300p1日本orc半导体光刻机PX 4654
纳米压印技术咨询PX 1953
LSC4000 半导体晶圆清洗设备PX 2844
超大型匀胶机PX 3040
JW-A66寸程控触屏台式匀胶机旋涂仪PX 2910
HMS-901HS晶圆烤胶机(光刻)PX 3389
MHY-26174匀胶机PX 3447
纳米压印系统PX 3042
全自动步进重复式激光干涉光刻机PX 1886
GH/KW-4A北京匀胶机PX 2665
GK100桌面微型紫外光刻机PX 3068
L-858DSEKONIC/日本世光原装全新摄影曝光机PX 3697
HC120SE可编程匀胶机(旋涂仪)PX 2280
德国SPS(POLOS)匀胶机仪器POLOS SPIN4000APX 3834
型号:ZRX-16298土壤温度记录仪PX 4137
KWD台式匀胶机PX 2500
HAD-17939喹啉不溶物测定仪PX 4036
VTC-200真空旋转涂膜机PX 4085
H17929GB/T 4985润滑脂和石油脂锥入度测定仪PX 4922
BJCKW-4A台式甩胶机|匀胶机/旋涂仪/旋转涂膜机|匀胶台PX 4516
低温等离子处理设备PX 5014
KT-S2DQX小型等离子去胶机清洗机PX 4564
薄膜生长设备
工艺测量和检测设备
集成电路测试与分选设备
光刻及涂胶显影设备
热工艺设备/热处理设备
硅片制备/晶体生长设备
掩模版和中间掩模版制造设备
离子注入设备
干法工艺设备
湿法工艺设备
组装与封装设备
其它半导体行业仪器设备
透镜三维压印机
紫外纳米压印机
无掩膜光刻系统
日本桌面台式无掩膜光刻机 PALET DDB-701
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C-43型多点光源曝光头高精度国产光刻机
C-33型 国产双面光刻机 精密光刻设备
C-33型 4英寸 国产高精度对准光刻机
等离子表面处理机
自动显影匀胶机
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