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EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)

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  • 海德創業(北京)生物科技有限公司
  • 2017-05-10 17:21:46
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【簡單介紹】

EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)High Resolution, Large Sample Sputter Coater高分辨率,大樣品,鍍鉻或其它金屬可用于8英寸(200mm)晶圓鍍膜。主機系統具有雙齒轉動樣品臺,可進行漸進的橢圓形轉動,這樣使得濺射沉積更均勻。

【詳細說明】

EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)High Resolution, Large Sample Sputter Coater

    高分辨率,大樣品鍍鉻或其它金屬

    EMS675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)可用于8英寸(200mm)晶圓鍍膜。主機系統具有雙齒轉動樣品臺,可進行漸進的橢圓形轉動,這樣使得濺射沉積更均勻。

EMS675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)系統裝有磁電管靶可增加濺射效率,它使用低電壓,可得到薄而精細的涂層。在EMS675X中放置了三個靶面,可鍍非常大直徑的樣品,加上旋轉樣品臺,保證了均勻沉積。這種方式不需要特殊的靶面,而用標準即可。多靶系統在半導體晶圓工業尤為適用。它使用渦輪分子泵,前級為旋轉機械泵。集成的儀器面板即插即用的電子學zui大的“up-time”,還有用戶友好設計,保證了多用戶系統的應用。

可預設濺射參數,包括氣體放氣電磁閥。獨立的真空泵系統由儀器自動控制。它可用金作為濺射靶材,在需要預清洗或去除氧化層時,也可選用其它靶材,如鉻靶。

閘門作為標準配置,這樣在維持真空時即可進行濺射清潔和濺射循環。

 

特點:

  • 配置三個靶面
  • 渦輪分子泵抽氣系統
  • 全自動控制
  • Peltier冷卻濺射頭
  • 精細涂層(0.5nm Cr粒子)
  • 可傾斜的特殊旋轉臺作為標準配置
  • 薄膜沉積(典型為5nm)
  • 直徑為300mm腔室
  • 可選雙濺射頭

優點:

  • 可對大樣品進行鍍膜,如:8英寸晶圓
  • 可濺射易氧化金屬的精細顆粒,如:鉻或銥
  • 易操作
  • 無需水冷卻
  • 超高分辨率,可復制涂層
  • 適應各種樣品
  • 重復膜厚沉積
  • 樣品容易裝載和卸載,包括8英寸晶圓
  • 不需要打開真空即可進行兩種金屬順序涂層

儀器參數:

儀器尺寸

450mm W x 500mm D x 300mm H (總高 630mm)

重量

42公斤

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃 300mm Dia. x 20mm H

安全鐘罩

聚碳酸酯

54 mm 直徑 x 0.3mm 厚x 3(鉻作為標配靶材)

旋轉樣品

可調的6 至 8 英寸晶圓尺寸,到靶距離60mm

沉積速率

0-15nm/分

濺射電流范圍

0-450mA

真空范圍

ATM-1x10-5 mbar

濺射定時

0-4 分鐘

電源

230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為8安培)

 

儀器訂購信息:

貨號

產品名稱

91026

EMS675X Turbo Sputter Coater complete with Three targets

91025

Rotary Vacuum Pump

91030

Gold Targets (x3)

91031

Gold Palladium Targets(x3)

91032

Platinum Targets(x3)

91013

Chromium Targets (x3)

91014

Tungsten Targets (x3)

91033

Glass Cylinder 225mm

91034

L Gaskets (x2)

91006

EMS 150 Film Thickness Monitor

92030

EMS 175 Oscillating Stage

EMS 7640-CF

Carbon Firber Coating Attachment

EMS 7640-CR

Carbon Rod Coating Attachment

 

    
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