當前位置:陜西普洛帝測控技術有限公司>>顆粒計數器>>研磨液顆粒計數分布儀>> PMT-2研磨液液體顆粒計數分布系統
應用領域 | 環保,生物產業,石油,制藥,綜合 |
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產品介紹 研磨液液體顆粒計數分布系統 商用集成電路的制造關鍵取決于通過化學機械平坦 化(CMP)將硅晶片表面拋光至接近原子平坦度的磨料漿 料顆粒的物理和化學性質。磨料漿料(Slurry)中含有相對 較少>1.0μm 的顆粒(如二氧化硅、氧化鋁),這些顆 粒可能會在晶圓表面平坦化處理的時候造成微劃傷。因此 ,磨料漿料(Slurry)顆粒的大顆粒計數 (LPC) 是 CMP 工 藝中的關鍵因素。
檢測原理 待測液體流過流通池,流通池兩側裝有光學玻璃,激光 器的光束通過透鏡組準直,光束穿過流通池,照射在光陷阱 上。若待測液體中沒有顆粒,則光電探測器接收不到光信號 ,若液體中有顆粒,顆粒通過流通池,與激光光束發生遮擋 或者散射現象。某一個(或幾個)角度下的遮擋和散射信號通 過透鏡收集匯聚到光電探測器上,產生正的電信號脈沖,脈 沖信號的幅度和光強成正比。根據信號的幅度和個數可以對 液體中的微小顆粒進行計數檢測。 光阻法主要檢測 2μm 以上的較大顆粒,光散射法主要 檢測 2μm 以下的顆粒。兩種模的巧妙融合檢測讓顆粒的探 測范圍更加寬廣且精度更高,讓顆粒無處遁形。 PLD-FX-801 液體顆粒計數器基于光散射法和光阻法雙模式的檢測原理,采用普洛帝核心技術第八代雙激光 窄光顆粒檢測傳感器,雙精準流量控制和在離線自動稀釋系統,可以用于評估研磨液中的不良顆粒以及這些顆 粒的濃度。PLD-FX-801 液體顆粒計數器可以有效幫助我們確認系統中的顆粒污染源,評估過濾的有效性以及減 少選些不良顆粒帶來的風險。
典型應用 應用于 CMP POU 供應前段-供給設備的 Final out 處檢測出 Slurry 內的引起 scratch & defect 的 Large Particle,從而預防事故的發生; 應用于檢測區分 Slurry good/bad test , good/bad slurry,在供給端分析而預防事故的發生; 應用于電子半導體行業純水中顆粒監測分析; 應用于電子半導體行業電子化學品中顆粒監測分析; 應用于過濾行業的濾除效率以及膜完整性監測; 應用于凈水廠凈水、鋼廠回收水、自來水用水等。
性能特點 雙模式的檢測原理,讓顆粒無處遁形; 0.5-100μm 的標準顆粒尺寸,超寬廣的顆粒監測范圍; 精確的流量控制,讓監測數據更加恒定和穩定; 在離線自動稀釋系統,適合超高濃度粒子; 高流速保證了快速的清洗時間和系統潔凈度; 儀器一體化設計故障率,保證了低維護成本; 乳膠球校準,可追溯至 NIST 標準; 實時觀察研磨漿料中顆粒的粒徑大小、數量和趨勢分析; 靈活設置限值報警,動態變化響應快; 可選配靈活通訊方式,實現工廠現代化管理;
技術參數
傳感器:第八代雙激光窄光檢測器(更精確,更穩定,更迅速)
∝測試原理: 光阻和光散射雙模式
∝測試樣品: 水和有機溶劑
∝檢測范圍: 0.5-100μm
∝通道數量:1000 通道可任意設定 16 個
∝檢測時間: 5s~自定義
∝粒徑精度: ≥90%
∝計數精度: ±3%
∝取樣精度: ±1%
∝取樣流速: 5mL/min~150mL/min
∝測定方式: 在線/離線、稀釋/直接
∝報警方式: 聲光報警器、漏液報警、顆粒限制報警
∝控制系統: Windows 操作系統
∝通訊方式: 標配 TCPIP;選配:RS232/RS485/4-20mA
訂購配置
標準配置:
檢測主機一套;
安裝調試耗材包一套;
出廠紙質文件一套。
入口壓力調節模塊。
應用案例
在線或離線測定時,可 Match 供給設備 filter 交換時或 charge 等供給設備 Event 變化帶來 的 LPC Data,可有效監測 Slurry 的 Grade。
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