目錄:中美合資合肥科晶材料技術有限公司>>薄膜制備全套設備>>小型磁控射頻濺射鍍膜儀>> VTC-1RF小型磁控射頻濺射鍍膜儀
小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。
我們用此設備得到擇優取向的ZnO薄膜
技術參數
輸入電源 |
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等離子源 |
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磁控濺射頭 |
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真空腔體 |
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載樣臺 |
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真空泵 | 可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統
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薄膜測厚儀 |
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質保和質量認證 |
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使用注意事項 |
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