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目錄:中美合資合肥科晶材料技術有限公司>>薄膜制備全套設備>>小型磁控射頻濺射鍍膜儀>> VTC-1RF小型磁控射頻濺射鍍膜儀

小型磁控射頻濺射鍍膜儀
  • 小型磁控射頻濺射鍍膜儀
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌
  • 型號 VTC-1RF
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 合肥市
屬性

>

更新時間:2024-10-22 15:47:25瀏覽次數:5321評價

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小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

我們用此設備得到擇優取向的ZnO薄膜

技術參數

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵)

等離子源

  • 一個100W,13.5MHz的射頻電源安裝在移動柜內
  • 配有一13.5MHz,100W的射頻電源(采用手動匹配)
  • 可選配300W射頻電源(自動匹配)
  • 注意:100W手動調節的RF(射頻)電源價格較低,但是每一次對于不同的靶材,都需要手動設置參數才能產生等離子體,比較耗費時間。300W自動匹配的RF(射頻)電源,價格較昂貴,但比較節約時間。
  • (點擊圖片查看詳細資料)

磁控濺射頭

  • 一個1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
  • 同時可選配2英寸濺射頭
  • 選配2英寸濺射頭靶材尺寸:直徑為50.8mm,zui大厚度6mm  
       

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
  • 一個不銹鋼網罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體
  • 真空度:<1.0*10-2 Torr (采用雙極旋片真空泵)
  •          <5*10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉速度:1 - 20 rpm
  • 樣品臺的zui高加熱溫度為700℃(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃
  •  

真空泵

可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統

  

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據
  •  

質保和質量認證

  • 一年質保期,終生維護
  • CE認證

使用注意事項

  • 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請用純度大于5N的Ar來進行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統過后,再導入到真空腔體內
  •  

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