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目錄:江陰韻翔光電技術有限公司>>光學元件>>光束整形>> 光束整形鏡片-方形光斑

光束整形鏡片-方形光斑
  • 光束整形鏡片-方形光斑
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具體成交價以合同協議為準
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 無錫市
屬性

應用領域:環保,化工,電子,綜合

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更新時間:2024-04-15 10:51:24瀏覽次數:1030評價

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應用領域 環保,化工,電子,綜合
光束整形鏡片-方形光斑
FBS2系列頂帽光束整形器是單片光學元件,可將高斯激光束轉換為方形頂帽狀光斑。FBS2是焦點光束整形器,它們在聚焦光學元件的焦平面上產生頂帽狀光斑。每個FBS2透鏡都設計用于固定的輸入光束直徑(@1/e²)和特定操作波長。光束整形透鏡可以輕松地集成到光路中的幾乎任何位置,甚至可以放置在光束擴展器/望遠鏡的前面或內部。

光束整形鏡片-方形光斑

TOP HAT BEAM SHAPING LENS FBS2

FBS2系列頂帽光束整形器是單片光學元件,可將高斯激光束轉換為方形頂帽狀光斑。FBS2是焦點光束整形器,它們在聚焦光學元件的焦平面上產生頂帽狀光斑。每個FBS2透鏡都設計用于固定的輸入光束直徑(@1/e2)和特定操作波長。光束整形透鏡可以輕松地集成到光路中的幾乎任何位置,甚至可以放置在光束擴展器/望遠鏡的前面或內部。

FBS2生成具有較長焦深(DOF)的頂帽光斑。對于平頂光斑,焦深約為類似光學設置中高斯光斑的瑞利長度的60%。頂帽寬度約為高斯光斑大小的1.5倍。在此范圍內,頂帽狀光斑是均勻的,并且峰值強度幾乎不變。

FBS2生成的頂帽狀光斑的寬度約為衍射極限高斯光斑大小的1.5倍。頂帽大小取決于聚焦光學元件的焦距(f)、輸入激光束直徑@1/e2d)和操作波長(λ)。輸出光斑大小通常小于100微米,可以使用額外的聚焦光學元件輕松縮放。

頂帽的大致大小可以通過以下公式計算:

2 * λ * f / dλ / NA,其中NA是聚焦光束的數值孔徑。

FBS2光束整形器可以與任何目標或F-Theta透鏡組合使用。

光斑尺寸:

Top Hat width

大約為 2 * λ * f / d,其中 f 為焦距,d 為輸入光束直徑@1/e2

Efficiency

高達90%

Homogeneity

約為±2.5%(相對于頂帽臺地的平均強度)

Side modes (strongest)

較強側模式強度約為線狀臺地的16.5倍(<1.5%的輸入能量)

Depth of focus (DOF)

約為瑞利長度的60%

基底規格:

Material

熔融石英

Transmission

>99%

Damage threshold @ 10 ns

1064 nm10 J/cm2532 nm5 J/cm2355   nm3 J/cm2

Dimensions

?25.4 x 3 mm

訂購信息:

CODE

OPERATION WAVELENGTH

INPUT BEAM DIAMETER @ 1/E2

FBS2-1064-1.0

1064 nm

1.0 mm

FBS2-1064-1.5

1064 nm

1.5 mm

FBS2-1064-2.0

1064 nm

2.0 mm

FBS2-1064-2.5

1064 nm

2.5 mm

FBS2-1064-3.0

1064 nm

3.0 mm

FBS2-1064-3.5

1064 nm

3.5 mm

FBS2-1064-4.0

1064 nm

4.0 mm

FBS2-1064-4.5

1064 nm

4.5 mm

FBS2-1064-5.0

1064 nm

5.0 mm

FBS2-1064-5.5

1064 nm

5.5 mm

FBS2-1064-6.0

1064 nm

6.0 mm

FBS2-1030-1.0

1030 nm

1.0 mm

FBS2-1030-1.5

1030 nm

1.5 mm

FBS2-1030-2.0

1030 nm

2.0 mm

FBS2-1030-2.5

1030 nm

2.5 mm

FBS2-1030-3.0

1030 nm

3.0 mm

FBS2-1030-3.5

1030 nm

3.5 mm

FBS2-1030-4.0

1030 nm

4.0 mm

FBS2-1030-4.5

1030 nm

4.5 mm

FBS2-1030-5.0

1030 nm

5.0 mm

FBS2-1030-5.5

1030 nm

5.5 mm

FBS2-1030-6.0

1030 nm

6.0 mm

FBS2-532-1.0

532 nm

1.0 mm

FBS2-532-1.5

532 nm

1.5 mm

FBS2-532-2.0

532 nm

2.0 mm

FBS2-532-2.5

532 nm

2.5 mm

FBS2-532-3.0

532 nm

3.0 mm

FBS2-532-3.5

532 nm

3.5 mm

FBS2-532-4.0

532 nm

4.0 mm

FBS2-532-4.5

532 nm

4.5 mm

FBS2-532-5.0

532 nm

5.0 mm

FBS2-532-5.5

532 nm

5.5 mm

FBS2-532-6.0

532 nm

6.0 mm

FBS2-515-1.0

515 nm

1.0 mm

FBS2-515-1.5

515 nm

1.5 mm

FBS2-515-2.0

515 nm

2.0 mm

FBS2-515-2.5

515 nm

2.5 mm

FBS2-515-3.0

515 nm

3.0 mm

FBS2-515-3.5

515 nm

3.5 mm

FBS2-515-4.0

515 nm

4.0 mm

FBS2-515-4.5

515 nm

4.5 mm

FBS2-515-5.0

515 nm

5.0 mm

FBS2-515-5.5

515 nm

5.5 mm

FBS2-515-6.0

515 nm

6.0 mm

FBS2-355-1.0

355 nm

1.0 mm

FBS2-355-1.5

355 nm

1.5 mm

FBS2-355-2.0

355 nm

2.0 mm

操訂購作要求:

輸入光束:高斯光束TEM00M21.4或更好。

光學設置中的光闌:整個光路中的透明孔徑應至少比1/e2時的光束直徑大2.2倍。

集成到光路中:

對準:必須在橫向方向(平移)上進行對準。繞光軸旋轉有助于對準頂帽的方向。

推薦安裝:840-0240 X-Y平移定位器。

光學設備:必須具備聚焦光學裝置。頂帽在該光學裝置的焦平面上產生。

有用的附件:光束擴展器,用于調節光束直徑(有效光束直徑至FBS2設計輸入光束直徑)和調節光束直徑至所需光斑尺寸。

有幫助的附件:光束剖面儀,用于在對準時檢查光束剖面。

       FBS - Top-Hat Fundamental Beam Mode Shaper

圖片

       Without FBS Beam Shaper: Gaussian-profile at focal plane

圖片

使用FBS光束整形器:在焦平面上得到頂帽狀光斑。

FBS與聚焦系統(FS)配合使用。

頂帽大小僅取決于聚焦光束的波長(λ)和數值孔徑(NA)。

FBSFS之間的距離可長達數米。

在焦平面上的強度分布:

主要FBS優勢:

可實現的頂帽大小最小值:總是1.5倍于1/e2的衍射極限高斯光斑大小。

可實現的頂帽輪廓:方形或圓形。

衍射效率:> 95%的能量在頂帽中。

均勻性:調制< ±2.5%

焦深:與高斯光束相似。

對失調、橢圓度和輸入直徑變化不敏感:±5-10%

圖片

Without FBS shaper: diffraction limited Gaussian profile

圖片

With FBS shaper: near diffraction limited Top Hat profile

直接放置在聚焦光學元件/物鏡前的光束整形器

圖片

通過在透鏡/物鏡前引入FBS光束整形器,初始的衍射極限高斯光斑會被轉化成均勻的頂帽狀光斑。

例如,如果使用直徑為5 mm@1/e2的高斯TEM00輸入光束、波長為532 nm和焦距為160 mm的聚焦透鏡,則可以獲得直徑為34 μm的均勻頂帽狀光斑。在整個光路中,自由孔徑的直徑必須至少為11 mm(最好為13 mm)。

放置在光束擴展器前的光束整形器

圖片

也可以將FBS光束整形器放置在光束擴展器前的光路中。這會導致聚焦光束的數值孔徑增大,從而使頂帽狀光斑變小。

例如,當直徑為5 mm@1/e2的高斯光束照射到FBS光束整形器后,通過光束擴展器將其擴展到直徑為8 mm的光束,在焦距為50 mm的聚焦光學元件/物鏡下,用戶可以生成直徑為7微米的頂帽狀光斑。所需的自由孔徑隨著擴展的光束而增加。對于直徑為8 mm的光束,自由孔徑必須至少為18 mm

放置在光束擴展器內的光束整形器

圖片

還有一種更加靈活的可能性,就是在光束擴展器內引入FBS光束整形器。用戶可以通過沿z軸移動整形器來輕松地對光束直徑進行微調。

CIGS太陽能電池的劃線

圖片

浪費面積會降低效率,因此需要更小的劃線

切割質量會影響效率,因此需要更小的HAZ,無碎片,光滑的邊緣

高掃描速度可實現高吞吐量,因此需要更小的脈沖重疊率

P1 – “劃線"

圖片

去除ZnO1微米)/ CIGS / Mo / PI結構中的前接觸。使用激光PL10100 / SH10 ps370 mW100 kHz532 nm;掃描速度為4.3 m/s,單次掃描。

P3 – “劃線"

圖片

ZnO1微米)/ CIGS / Mo / PI結構中P3劃線的傾斜SEM圖片。使用激光PL10100 / SH10 ps370 mW100 kHz532 nm;掃描速度為60 mm/s,單次掃描。

引用:  RaciukaitisJLMN-Vol. 6No. 12011





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