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NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或...

NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或...

NSC-3500（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達8“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-...

NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統：臺式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵...

NSC-3000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-...

NSC-1000磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 T...

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機：*進的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套...