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NIE-3500(M)離子束清洗系統(tǒng):是一款手動放片/取片,但工藝過程為全自動計算機(jī)控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
NIE-3500(A)全自動離子束清洗系統(tǒng):是一款自動放片/取片,并且工藝過程為全自動計算機(jī)控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、...
NIE-3000離子束清洗系統(tǒng):是一款手動放片/取片,但工藝過程為全自動計算機(jī)控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng):Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕法刻...
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng):Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...
NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光...
NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶...
NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶...
NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光...
NPC-3000等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝...
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