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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子,制藥 |
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RIBE反應離子束刻蝕系統
NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕產品概述:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。
NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。
NIE-4000(R)產品特點:
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