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當前位置:那諾中國有限公司>>生長系統(tǒng)>>ALD原子層沉積系統(tǒng)>> NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號NLD-3000
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地國外
更新時間:2023-11-13 12:05:13瀏覽次數(shù):4770次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 |
原子層沉積技術
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)概述:原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術,具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性,可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現(xiàn)到大基片上。
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)特點:NLD-3000是一款獨立的PC計算機控制的ALD,帶Labview軟件,具備四級密碼控制的用戶授權保護功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設計,并提供了強大的靈活性,可以用于沉積多種薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。應用領域包含半導體、光伏、MEMS等。NLD-3000系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應腔體,帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋,非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個載氣艙包含多達7個50ml的加熱汽缸,用于前驅(qū)體以及反應物,同時帶有N2或者Ar作為運載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。
NLD-3000選配:NLD-3000系統(tǒng)的選配項包含自動L/UL上下載(用于6”基片),ICP離子源(用于等離子增強的PEALD),臭氧發(fā)生器,等等。
NLD-3000應用:
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