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NLD-3000原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性...

薄膜反射儀是一款相對較低成本和操作簡單的工具。基于陣列的探測器系統保證快速測量，可升級到MSP（顯微分光光度計）系統，SRM映射系統，多通道系統，大點的...

光學接觸角測量儀可根據客戶的需求，針對不同的工作測試環境，提供相應的解決方案，如有技術請咨詢德國韋氏納米系統

Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業享有盛名。該公司...

高功率等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。對...

基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清...

PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創建高密度等離子，從而控制薄膜應力。

等離子刻蝕ICP基片通過預真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產品接觸，從而提高了用戶安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

液相擴散技術（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強。這種專有的干燥工藝及其它的系統控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動擴散去除水分，不留...

PDC-002等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔...

刻蝕顯影清洗系統是一套脫機系統，在一個封閉的清洗室內清洗網紋輥，并由計算機控制。該系統包含一個回收裝置，去除廢料，清洗介質的表面，并允許塑料介質可以重復多次使用...

氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機模型結合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監測更精確的定量控制。

Harrick高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

AT-400原子層沉積系統高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結構上實現所需的共形性；預置有經驗證過的 3D 和 2D 沉積的優化配方；簡單...

Model 308 便攜式光功率計 ●精確性 ●可靠性 ●可重復性 ●數顯直讀 ●便捷性

45年來，OAI始終是紫外能量測試儀器領域的*應用商，其儀器用于半導體、微機電系統、晶圓封裝和晶圓植球行業中光刻工藝的可靠，精確校準控制。Model 659是一...

在硅片等基板上附膜時，由于基板和薄膜的物理定數有異，產生應力，進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現為基板的翹曲，而薄膜應力測量裝置FLX系列可從這...

ActiGraph人體運動能耗監測儀ActiGraph設備已經被超過60個國家的幾百所大學和研究機構所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

ActiGraph人體運動能耗監測儀ActiGraph設備已經被超過60個國家的幾百所大學和研究機構所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

AS-One系統有兩種型號： AS-One 100 系統或AS-One 150 系統該快速退火爐是專門為滿足大學、研究實驗室和小規模生產的需求而研制的，高可靠且...