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PDC-002-HP-高功率等離子清洗機
  • PDC-002-HP-高功率等離子清洗機
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貨物所在地:國外

地: U.S.A

更新時間:2024-08-30 21:00:06

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Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始,Harrick Plasma ,行業享有盛名。該公司的創始人N. J. Harrick博士,開創了內反射光譜和成為該技術的主要*。 Harrick Plasma 研發了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。高功率等離子清洗機,現在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應用。

 高功率等離子清洗機與擴展型一樣具有雙倍的清洗速率,高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具,適用于刻蝕有機薄膜(10--100nm)以及表面活化改性。

 

PDC-001-HP (115V); PDC-002-HP (230V)

 高功率等離子清洗主要特點:

  • 緊湊臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。
  • 功率為低、中、高三檔可調。
  • 低檔功率相當于PDC-2 擴展型等離子清洗機的高檔功率設置
  • 清洗腔:長6.5英寸,直徑6英寸的耐熱玻璃腔體 , 腔蓋可拆卸
  • 帶有視窗的鉸鏈門
  • 自動風扇冷卻
  • 集成真空泵開關
  • 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力;
  • 整機尺寸:11英寸H × 18英寸W × 9英寸D;
  • 重量:37 lbs;
  • 選配件
  1. 石英等離子清洗腔;
  2. 氣體流量混合器;
  3. 真空泵;

 高功率等離子清洗機參考客戶:

       蘭州大學  鄭州大學 上海交通大學 上海復旦大學 合肥工業大學 成都電子科技大學 北京大學  清華大學醫工所  蘭州化物所 中科院納米所 等等

我公司專業銷售Harrick Plasma產品,并提供Harrick Plasma產品的售前售后服務,如您對Harrick Plasma產品感興趣,歡迎前來咨詢!German First-Nano System (HK)Limited

 

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