注意測繪儀器的防霧
測繪儀器在使用和貯放中,除了有生霉現象外,往往還有光學零件的起霧,影響儀器的正常使用,故可針對光學信器起霧的主要因素,采取防止措施。
A、設計使用中的防霧措施
A1、設計儀器時注意防霧,儀器結構應加強密封性能,保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能,以防止因漏氣而引起的水性霧,設計人員應當充分注意選擇化學穩定性能好的光學玻璃和材料,為防霧打下良好的基礎。
A2、在制造和維修過程中注意整潔生產,裝配和維修的工房須清潔,并嚴格遵守操作規程,精心擦拭光學零件,嚴禁用手直接接觸和拿取光學零件,夾持光學零件的工具須進行脫脂處理,擦光學零件所用的輔件,如棉光、布塊、乙醇、yi醚、碘以及與光學零件接觸的有機墊片均須進行嚴格脫脂,控制含脂量,裝光學零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子,須經常清洗,保持清潔,這些都是減少油性霧的重要途徑。
精密光化學反應器是開發新一代化學反應裝置,主要適用于液相固相,模擬可見光,特種模擬照射下是否負載,在催化劑等條件下的光化學反應,化學合成,環境環保護及生命科學研究領域。
新一代光化學反應裝置,主要用于研究氣相、液相固相、流動體系在模擬紫外光、模擬可見光、特種模擬光照射下,是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。同時我公司為客戶提供纖維狀、排列狀物質特殊反應容器,解決不通物質在常規反應容器內的放置問題。
光催化降解JT-GHX-A光化學反應儀多功能光化學反應儀適合應用于化學合成、環境保護及生命科學等研究領域,該系統具有技術合理、結構簡單、操作便捷、運行穩定、保護人體、自由組合、靈活定做等*優勢!
主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品,測定反應動力學常數,測定量子產率等功能,廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。
光催化降解JT-GHX-A光化學反應儀技術參數:
(一)主體部分:
1.光源功率可連續調節大小。
2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。
4.氙燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。
5.金鹵燈功率調節范圍:0~500W可連續調節。
(二)小容量反應部分:
1.石英試管規格:30ml、50ml(或定做)。
2.可同時處理8個樣品(或定做)。
3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。
(三)大容量反應部分:
1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。
注意事項
在操作、維護和儀器的所有階段,都必須遵守以下的基本安全措施。在儀器使用時應按照說明書來操作,違規使用會造成儀器的正常工作,至使儀器損壞。
A、為了避免觸電事故,儀器的輸入電源線必須接地,本儀器使用的是三芯接地插頭,這種插頭有接地腳,如果插頭無法插入座內,則應請電工安裝正確的插座,不要使儀器失去接地保護作用。
B、注意使用電源:
在連接交流電源之前,要確保電壓與儀器所要求的電壓*(允許±10%的偏差),并確保電源插座的額定負載不小于儀器要求。
C、注意使用電源線:
本儀器通常使用隨機附帶的電源線。如果電源線破損,必須更換不許修理。更換時必須用相同類型和規格的電源線代替。本儀器使用時電源線上不許放置任何物品。不要將電源線置于人員走動的地方。
D、注意儀器的安放:
本儀器應放在陰涼、通風、干燥、防塵較好的位置,為了更好的散熱效果,儀器通風處,于其它物品應保持有效距離(N﹥30cm)。
必須重視儀器設備的管理和使用
儀器設備的高負荷使用,往往容易發生意外故障,特別是光學儀器若因維護和使用不當而起霧,就不能發揮儀器的正常作用,而帶來工作上的障礙。所以高效的維護管理儀器設備已成為當今企事業單位有效降低成本,提高勞動生產率的有效手段。目前國內企業設備維護管理一般還停留在被動的搶修作業模式,即當儀器設備發生故障,無法繼續使用時,維修人員才在短時間內將故障排除,而當沒有發生故障時,維修人員只是空閑,所以這樣的管理模式是談不上效率的,因此,儀器設備的管理也應做好計劃,同樣設備維護管理也需要把非計劃性的工作轉化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養來減低故障的發生,特別是做好儀器的"三防"工作,避免搶修工作,保證儀器隨時能投入正常的作用,這就是一種主動的方式。