手動/半自動曝光機

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為球*的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以秀的技術、*的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

手動/半自動曝光機

產地：韓國MIDAS公司，一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-400M, MDA-60MS

主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統控制：手動、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調；
- 技術：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統，大放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能；

武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業研發，以力學試驗機儀器為主，同時銷售各種、中低端分析儀器。現有員工60多人，公司成功開發了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件，并采用全數字化，操作簡捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標準、國家標準、行業標準的要求，公司亦通過了ISO9001質量體系認證和國家計量體系認證，榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。

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