Pluto-30^TM技術規格

1. 電源系統：RF射頻電源：頻率13.56MHz；功率≥500W連續可調；動態范圍：1~500W;控制精度：1~100W ±2W ;>100W ±2% ;，輸出穩定性：-20分貝。全自動匹配阻抗電源，可自動調整阻抗反射

2. 真空腔體：經檢漏測試的316不銹鋼腔體，內部尺寸300W x 280H x 366Dmm

3.電極尺寸（有效處理面積）：接地電極尺寸：226W x 210D mm;功率電極尺寸：226W x 210D mm

4. 電極數量：7層，工作面最多可達6層（標配一對電極）

插桿式，6061-T6鋁合金，電極間距：48mm（可根據需求更改電極數量和間距）

5. 在腔體范圍內，根據電極間隙自由設置工作距離，以適應不同規格樣品。

6.針對不同材料屬性，可自由設置電極屬性

7.氣體控制：標配1路氣體，1個MFC（質量流量控制閥），20-200sccm 最多可升級至4路氣體，4個MFC控制器 （氬氣、氧氣、氮氣、氫氣、四氟化碳可選）

8.xtance氣體多層均分方案，可將等離子體均勻分配至樣品表面

9. 設備控制系統：7寸工業控制電容觸摸屏，PLC+控制技術，設置各項參數，實時顯示設備運行狀態，界面友好，操作方便

10.真空變頻控壓，可實現控制真空腔內恒定壓力。

11.真空度過低報警，氣源壓力不足報警，錯誤氣體報警，等一系列報警措施

12. 真空系統：油泵:TRP-24抽氣速率   （50Hz） L/S  6（可選干泵）

13.真空計：皮拉尼真空計

14.真空管路：全不銹鋼管路，以及高強度真空波紋管

15. PLUTO-30軟件參數

1. 實時動態顯示各部件工作狀態,并顯示相對應數值,包括閥門開啟與關閉,流量計,射頻電源是否開啟等實時信息

2. 工藝界面:可選擇自動運行或手動運行,編輯工藝程序,系統配置,運行設定,監控查看運行圖表及相關系統設定

3. 全手動操作:整個工藝過程,包括真空泵啟動,工藝氣體時間,功率,輝光放電等均由人工干預控制.

4. 系統可自由設定(包括在設備運行過程中)等離子RF功率,處理時間,真空度,氣體流量,氣體穩定時間,氣體通入時間,吹掃,破真空等工藝參數

5. 操作人員可設置系統登錄賬戶和密碼,密碼可由經過設置權限的操作人員設定和更改,并登錄和退出系統賬號(共有3個級別)

6. 工藝參數由被設定權限的操作人員設定,每個工藝參數最多可以有5個工藝步驟組成,可根據工藝要求設定每個工藝參數并設定每個步驟的相隔時間

7. 可設定工藝程序底壓與是否開啟吹掃功能和抽底壓時限

8. 報警:可設定工藝壓力偏移報警(時間,范圍),射頻功率報警(時間和范圍),真空腔泄漏自檢功能

9. 可忽略系統工藝運行時間的邏輯設定,單獨控制閥門,流量計及射頻電源的開啟與關閉,以在特殊情況下或應用中設定系統狀態

16. 外形尺寸：706W x 920D x 1415H mm（寬×深×高）

Pluto-30^TM性能優勢

（1）電源：采用高壓激勵電源電路技術，產生高密度等離子體，能夠穩定持續的作用于樣品表面。耐壓能力強，持續穩定工作。

（2）全面安全防護：設備有完善預防裝置和眾多標識，以針對于設備本身安全性和操作人員的安全保障，

（3）放電技術：電極設計，可調節電極間距，以適用不同規格的產品，同時又能保證良好處理效果，保障用戶使用需求

（4）真空腔體制造：因為材質中雜質含量會對等離子體會產生干擾，所以，我們所有的真空腔體均采用腔體采用316不銹鋼，并通過嚴格的檢漏測試。

（5）優質產品部件：產品部件帥選，經過多年的考量和磨合，選出適合和優質的部件，確保設備性能*和長時間穩定的運行

（6）低清洗溫度：滿足不同場合溫度要求，不對清洗產品造成溫度影響。同時，我們還能提供水冷電極，以針對溫度非常敏感的產品

（7）精密數控加工：進口精密CNC數控機床加工工藝，并配備進口三坐標測量儀進行質量監控。

（8）適用形狀復雜樣品：清洗各種復雜形狀的產品，包括內孔內壁，均勻清洗

（9）多種控制方式：設備采用PLC+觸摸屏控制方式，具備手動和全自動兩種控制手段，能夠滿足各種不同應用層面的控制需求（從產品處理至科學研究）