PCL納米纖維薄膜網格膜片150nm-昊然

靜電紡絲作為一種簡便的生產高分子納米纖維的加工技術，用于制備低模量、高柔順性、高強度的可降解高分子纖維材料是一個重要的科學課題。這類材料研究成功后可用于制作高柔韌性單絲手術縫線，也可用于制備組織工程支架等，這將推動醫學和生物學的發展與進步。

PCL納米纖維薄膜網格膜片150nm-昊然

PCL納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）

納米纖維是指直徑為納米尺度而長度較大的線狀材料,可用于微導線、微光纖材料,激光或發光二極管等材料,具有極廣泛的應用前景。納米纖維可以通過靜電紡絲的方法制備,采用靜電紡絲技術不但可以在較短時間內制備出大量長而連續的納米纖維,而且制備的納米纖維具有高孔隙率,高比表面積等優點。

開放式孔構薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網格濾片150nm（厚度：600um）（直徑3/8cm）（網格空隙：200um）

PS納米纖維網格濾片300nm（厚度：1000um）（直徑3/8cm）（網格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網格濾片150nm（厚度：1cm）（網格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網格濾片300nm（厚度：1cm）（網格空隙：400um）

PS納米纖維內嵌網格濾片150nm（厚度：600um）（孔數：6/12/24/48/96）（網格空隙：200um）

PLGA納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：200um）

PLGA納米纖維網格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：400um）

PLGA納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）

PLGA納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）

溫馨提示：以上產品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）