PCL納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）

靜電紡絲作為一種簡便高效的生產高分子納米纖維的加工技術，用于制備低模量、高柔順性、高強度的可降解高分子纖維材料是一個重要的科學課題。這類材料研究成功后可用于制作高柔韌性單絲手術縫線，也可用于制備組織工程支架等，這將推動醫學和生物學的發展與進步。

PCL納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）

（直徑：3/8cm）（網格空隙：200um）

到目前為止,靜電紡絲技術是制備納米纖維直接有效并且簡單通用的方法之一,然而,靜電紡納米纖維大多以雜亂無章的無紡布結構被收集,力學性能差、缺乏縫編性,無法應用于傳統的紡織領域。

開放式孔構薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網格濾片150nm（厚度：600um）（直徑3/8cm）（網格空隙：200um）

PLGA納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）

PLGA納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）

PLA納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PLA納米纖維網格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：400um）

PLA納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網格濾片300nm（厚度：1000um）（直徑3/8cm）（網格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網格濾片150nm（厚度：1cm）（網格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網格濾片300nm（厚度：1cm）（網格空隙：400um）

PLA納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：200um）

PCL納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）

PCL納米纖維內嵌網格膜片150nm（厚度：600um）（孔數：6/12/24/48/96）（網格空隙：200um）

靜電紡絲聚已內酯纖維薄膜-大孔

多孔PCL聚已內酯聚合物納米纖維膜

孔徑20umPCL納米纖維膜-生物可降解組織支架

溫馨提示：以上產品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）