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薄膜、TEM微孔氮化硅膜
【基本信息】
中文名稱：TEM微孔氮化硅膜
純度：99.9%
材料：LPCVD 氮化硅薄膜
介電常數：6-7
介電強度：10（106 V/cm ）
電阻率：1016Ω-cm
粗糙度（Ra)：0.28±5%nm
楊氏模量：270GPa
粗糙度(Rms)：0.40±5%nm
存儲：-20℃冷藏、密封、避光
保存時間：1年
規格：mg
用途：僅用于科研，不能用于人體
薄膜、TEM微孔氮化硅膜
【詳情描述】
TEM微孔氮化硅膜是指通過透射電子顯微鏡（Transmission Electron Microscopy，TEM）觀察的具有微孔結構的氮化硅薄膜。這可能涉及到納米材料、薄膜技術和電子顯微鏡等多個領域。
TEM（透射電子顯微鏡）：
定義： TEM是一種高分辨率的電子顯微鏡，能夠通過樣品中透射的電子來產生高分辨率的圖像。它常用于觀察納米級和亞納米級尺度的材料結構。
微孔氮化硅膜：
定義：微孔氮化硅膜指的是具有微小孔隙結構的氮化硅（Silicon Nitride）薄膜。這種結構可能在納米尺度上具有特殊的電學、光學或傳感性質。
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以上資料來自西安昊然生物小編JMY 2024.1.31.
以上文中提到的產品僅用于科研，不能用于人體及其他用途。
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