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森泰克刻蝕機Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體，具有非常高的工藝穩定性和重復性。升級增加預真空室后，可使用氯基氣體、完成金屬、化合物...
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500干法刻蝕系統廣泛應用于半導體制造、微納加工、MEMS制造等領域。它可以用于刻蝕多種材料，包括但不限于三五族化合物半導體（如...
簡要描述：RIE等離子刻蝕機2我們的等離子蝕刻設備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝窗口，數據記錄和用戶管理。
簡要描述：RIE等離子刻蝕機該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝編輯窗口，數據記錄和用戶管理。
簡要描述：ICP-RIE等離子刻蝕機三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻...
簡要描述：等離子沉積設備低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態密度，使得所沉積的薄膜具有優異的性能。
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