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SNC4000-MG尾氣廢氣多氣體在線監測儀主要用于混合氣體單一成分或多種成分連續分析與監測。采用獨立的電化學、紅外激光、紫外差分等傳感器串聯組合成多種氣體分析系統。系統采用神經網絡補償分析技術，能夠很大程度消除各種氣體的相互干擾。適合于城市環境空氣質量連續監測、工業污染源廢氣尾氣排放監控、園區無固定污染源廠界監測等場合。

尾氣廢氣多氣體在線監測儀

煙氣中多氣體分析儀

簡介
SNC4000型尾氣廢氣多氣體在線監測儀主要用于混合氣體單一成分或多種成分連續分析與監測。采用獨立的電化學、光度計等傳感器串聯組合成多種氣體分析系統。系統采用神經網絡補償分析技術，能夠很大程度消除各種氣體的相互干擾。適合于城市環境空氣質量連續監測、工業污染源廢氣尾氣排放監控、園區無固定污染源廠界監測等場合。

儀器功能

7inch標準顯示器，800×480分辨率

電容觸摸屏，可以支持5點觸摸

支持背光單獨控制，可關閉背光節省功耗

支持標準HDMI接口輸入、LAN插口、可遠程升級

工控電腦、支持win7系統，可存儲數據
RS232/RS485通信接口，可輸出4-20毫安模擬信號

可連接數據采集儀，數據上傳*平臺

可形成歷史記錄圖，瞬間曲線圖、可導出表格
用戶可增加測試項目配置（氣象參數等）

自動采樣處理除塵、除水、除油
手動或自動空氣在線校準

應用

環境大氣污染物監測

工業過程氣體連續檢測

煙氣污染源排放檢測系統

大空間氣體探測，泄露報警

工業廢氣處理排放監測預警

污染源無組織排放廠界監測自測

儀器配置列表

單元	規格	數量	說明
分析儀主機	臺	1	內置氣泵、分析器、處理器、輸出模塊等
煙氣采樣槍	套	1	內置過濾膜、卡箍、卡盤
外置過濾器	臺	1	酸性腐蝕性氣體選用
安裝支架	套	1	廠界監測
其他配件	套	1
避雷器	個	1	廠界監測

儀器參照標準和規范

我方在設備設計和制造中所涉及的各項規程，規范和標準遵循現行

BS 5308 儀表電纜

ISA S50.1-82 工業儀表模擬信號

ISA S5.1 儀表符號和標志

EEMUA 38 在線分析儀系統的設計和安裝

GB-12519-90 分析儀器通用技術條件

GB 50093-2002 自動化儀表工程施工及驗收規范

GB/T 191-2000 包裝儲運圖示標志

GB27632-2011 橡膠制品工業污染物排放標準

GB-12519-90 分析儀器通用技術條件

GB 50093-2002 自動化儀表工程施工及驗收規范

GB7307-87 非螺紋密封的管螺紋（電氣接口）

GB/T 6587.7-1986 電子測量儀器基本安全試驗

GB/T 15464-1995 儀器儀表包裝通用技術條件

HG 20505-2000 過程測量與控制儀表的功能標志及圖形符號

HJ/T352-2007 環境污染源自動監控信息傳輸、交換技術規范

HJ/T212-2005 污染源在線自動監控（監測）系統數據傳輸標準

DB44/xxx- 2010 表面涂裝（汽車制造業）揮發性有機化合物排放標準

附錄常規參數列表：

用戶可根據需要在表格選擇一種或者幾種參數。

檢測內容	化學式	檢測范圍	示值誤差	zui小示值
*	PH3	(0-20-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
有機揮發性氣體	TVOC	0-10/50/100ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
氮氧化物	NOx	0-10/20/50ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
氧氣	O2	(0.0-25.0)%	≤±0.5%	0.1%
可燃氣	Ex	(0-100)%LEL	≤±5%(F.S)	1%LEL
一氧化碳	CO	(0-2000)ppm	≤±5%(F.S)	1ppm
硫化氫	H2S	(0-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
二氧化氮	NO2	(0-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
一氧化氮	NO	(0-1000)ppm	≤±5%(F.S)	1ppm
二氧化硫	SO2	(0-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
氯氣	Cl2	(0-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
氨氣	NH3	(0-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
氫氣	H2	(0-2000)ppm	≤±5%(F.S)	1ppm
*	HCN	(0-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
臭氧	O3	(0-1-5)ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
氟氣	F2	(0-1)ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
氟化氫	HF	(0-10)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
*	HCL	0-10/20/50ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
溴化氫	HBr	(0-30)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
環氧乙烷	C2H4O	(0-100)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
光氣	COCL2	(0-1)ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
硅烷	SiH4	(0-20)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
鍺烷	GeH4	(0-2)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
砷烷	AsH3	(0-1)ppm	≤±5%(F.S)	0.1ppm
二氧化氯	ClO2	(0-1-200)ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
四氫化氮	N2H4	(0-1)ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
yipeng烷	B2H6	(0-0.5)ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
苯乙烯	C8H10	0-20/50/100ppm	≤±5%(F.S)	0.01ppm
氫氣	H2	(0.00-4.00)%	≤±5%(F.S)	0.01%
甲烷	CH4	(0.00-5.00)%	≤±5%(F.S)	0.01%

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