杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除      

 應用：        

應用EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應用在半導體行業，以滿足關鍵的清潔需求            

從高深寬比MEMS器件100μm+ 到*進DRAM 的70nm集成的各個階段

下面列出了常見的應用程序： 

• 接觸清潔            

• 金屬線清潔

• TSV深硅穿孔清潔           

• 鎢埋位線清洗            

• 聚酰亞胺清洗            

• Pad清潔            

• MEMS清洗

特征：

• 所有蝕刻后鋁清洗的單一解決方案

• 清洗接觸，金屬，穿孔和Pad

• 高度選擇性的殘留物去除

• 去除重有機殘留物

• 寬工藝窗口

• 高產率 

• 穿孔接觸電阻降低

• 鋁清洗行業基準

應用：        

應用EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應用在半導體行業，以滿足關鍵的清潔需求            

從高深寬比MEMS器件100μm+ 到*進DRAM 的70nm集成的各個階段

下面列出了常見的應用程序： 

• 接觸清潔            

• 金屬線清潔

• TSV深硅穿孔清潔           

• 鎢埋位線清洗            

• 聚酰亞胺清洗            

• Pad清潔            

• MEMS清洗