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Aridus3 膜去溶霧化系統

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌CETAC/美國

廠商性質生產商

所  在  地上海市

更新時間:2024-10-18 09:41:48瀏覽次數:139次

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產地類別 進口 價格區間 面議
應用領域 綜合
Aridus3
膜去溶霧化系統
Aridus3 膜去溶霧化系統采用低流量、微量霧化器,只需極低量樣品就能分析所有元素,同時系統全部采用PFA惰性材料,可應用于含HF酸的樣品,廢液反抽技術進一步提高了穩定性。

Aridus3
膜去溶霧化系統

Aridus3 膜去溶霧化系統采用低流量、微量霧化器,只需極低量樣品就能分析所有元素,同時系統全部采用PFA惰性材料,可應用于含HF酸的樣品,廢液反抽技術進一步提高了穩定性。

技術參數

  • 可移動的模塊化膜去溶設計,拆裝和清洗方便

  • 帶蓋保護的PFA霧化室,避免靜電干擾

  • 膜去溶技術,有效減少溶劑對ICP-MS的干擾,顯著降低氧化物和氫化物水平

  • 大大改善信號的穩定性,即使是有機溶劑(如甲醇)

  • 提高ICP-MS的靈敏度4-10倍以上

  • 可選配QuickWash3清洗裝置,有效抑制記憶效應

  • 采用質量流量控制器(MFC)精準控制氣體流量

  • 可通過Aridus Link軟件遠程控制加熱溫度和氣體流速

  • 實驗完成后可啟動氣體自動關閉程序,大大節約氬氣成本







Aridus 3 膜去溶霧化系統:專門為ICP-MS進樣分析研發設計的進樣系統,其能夠最大增強10倍信號強度,同時能夠去除溶劑干擾,極大地降低信號基線,基本上消除氫氧化物干擾。

Aridus進樣系統是把微量霧化器和膜去溶技術相結合,具有如下特性:

   具有膜去溶的低流量(<100 µL/min)的微量霧化器

   減少了溶劑對ICP-MS的干擾

   家氮以增強ICP-MS的信號

   所有于樣品相關的部件均為惰性材料制成

   泵抽霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液

   可與所有ICP-MS 相聯

   可與ASX-100微量自動進樣器想配

 

Aridus進樣系統采用的低流量、氟材料的微量霧化器,而其性能優于高流量的常用的同心型霧化器。以大約60 µL/min常用樣品提升量,Aridus只需小于1mL的樣品就能分析所有的元素。同時Aridus全部采用惰性材料,可應用于含HF酸的樣品。采用泵抽出霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液進一步提高了穩定性。

        從霧化室出來的樣品氣溶膠進入加熱的氟材料隔膜,用一反向氬穿透氣"帶走從膜滲透出來的溶劑蒸汽。

 

 

減小了ICP-MS的干擾

Aridus膜去溶能有效去除樣品溶劑蒸汽,顯著地減少諸如來自水中的氧化物、氫化物的干擾,下圖比較了標準氣動霧化器與Aridus系統的CeO/Ce 比率,該CeO/Ce比率從3% 減少為0.05%

其他水基的干擾ArH +39)、CO2+44)、ArO+56)有明顯的減少,從而使LiNaMgKCaFe的檢出限得到明顯改善。

 

配備AridusICP-MS檢出限:(在普通環境、非冷焰的條件下,ELAN6000ICP-MS

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Li

7

0.4

K

39

8

Na

23

15

Ca

44

300

Mg

24

6

Fe

56

10

 

增強ICP-MS的信號

在膜去溶后加如少量( 20 mL/Min)的氮能提高分析信號。

 

的信號穩定性

Aridus1小時信號穩定性:RSD<3%(用Mg24Co59Ce140Pb208 4個通常調諧元素來測定)

Aridus10小時信號穩定性:RSD<5%(用Mg24Co59Ce140Pb208 4個通常調諧元素來測定)


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