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當(dāng)前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺-圖形發(fā)生>>電子束曝光>> 亞科Electron Beam Lithography System(EBL)

Electron Beam Lithography System(EBL)

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號亞科

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 15:33:43瀏覽次數(shù):1266次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 150萬-200萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。先進(jìn)納米科技提供;的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。

超高分辨率電子束光刻EBL
 

系列采用專業(yè)的恒溫控制系統(tǒng),使得整個主系統(tǒng)的溫度保持恒定,再加上主系統(tǒng)內(nèi)部精密傳感裝置,使得電子束電流穩(wěn)定性,電子束定位穩(wěn)定性,電子束電流分布均一性都得到了的提高,其性能指標(biāo)遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其它廠家的同類產(chǎn)品,在長達(dá) 5 小時的時間內(nèi),電子束電流和電子束定位非常穩(wěn)定,電子束電流分布也非常均一。


納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是好的方法之一。司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供 的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。 

超高分辨率的電子束光刻系列的型號包括:
 

技術(shù)參數(shù):
加速電壓:高130keV
單段加速能力達(dá)到130keV,盡量減少電子槍的長度
超短電子槍長度,無微放電
電子束直徑<1.6nm
小線寬<7nm
雙熱控制,實現(xiàn)超穩(wěn)定直寫能力

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