Centrotherm 快速熱工藝設備-RTP 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商，尤其在高溫設備領域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速熱工藝設備，主要用于滿足研發和小規模量產所需的多種工藝要求。

RTP 150型快速熱反應設備，采用緊湊型的真空腔室設計滿足多種工藝需要，是一款可用于生產和研發用的單晶圓工藝設備。

RTP 150型設備包括一個帶集成壓力學習控制壓力范圍在1mbar至50mbar的真空腔室。采用燈管加熱系統提供了可調節的加熱均勻性控制，采用了CENTROTHERM公司技術的溫度控制系統。

RTP系統可用于6寸晶圓和5寸石墨基板的加熱。可在15分鐘內更換基板的尺寸和類型。

設備用于高性能、小占地面積、低成本高工藝靈活性的工藝場合。

設備特點：

壓力可控的真空或大氣環境下工作

高靈活性：最大6寸硅片或其他材料

溫度范圍：20℃~1150℃

*加熱的工藝溫度可達 750℃