真空機組GZK-1012 參考價:面議
產品簡介:真空機組GZK-101是低真空機組,極限真空度為10-3torr,內部裝有雙旋機械泵TRP-12配套使用,接口為KF-D25,并配有高真空法蘭、數字式...雙級旋片式真空泵VRD系列2 參考價:面議
產品簡介:雙級旋片式真空泵VRD系列包括VRD-8、VRD-16高真空系統GZK-103D3 參考價:面議
產品簡介:英國的Edwardvacuumpump(由隔膜泵和斡旋分子泵組成),被安裝在一移動殼體中(殼體上可以放高溫爐)德國小型渦輪分子泵EQ-PV-HVS2 參考價:面議
產品簡介:德國小型渦輪分子泵EQ-PV-HVS配有KF40真空波紋管和KF25真空計,真空范圍從10-3mbar-10-7mbar,啟動后短時間即可獲得較高的真...AP-1400V無油真空泵 參考價:面議
產品簡介:AP-1400V無油真空泵是我司經過篩選出的蕞適合實驗室進行真空操作的設備,該款真空泵具有體積小巧,操作簡單,噪音小,使用壽命長等優點進口無油真空泵(226Lmin)ACP152 參考價:面議
產品簡介:進口無油真空泵(226L/min)ACP15因為泵內無油,所以在真空狀態下無油霧產生,從而為實驗提供了一個潔凈的低壓環境,特別適合與我司管式爐配合使用...系列高功率數控超聲波清洗機 參考價:面議
產品簡介:系列高功率數控超聲波清洗機采用超聲發生源與清洗槽落地式一體化設計,采用高功率發射超聲波,超聲波頻率高,清洗能力強VGT-1620TD超聲波清洗機 參考價:面議
產品簡介:VGT-1620TD超聲波清洗機是一款利用超聲波高頻率振動對物品進行清洗的原理,主要用于清洗眼鏡、珠寶首飾、鐘表等,并可在機械、紡織、電子、化纖、石油...VGT-1620QTD超聲波清洗機4 參考價:面議
產品簡介:VGT-1620QTD超聲波清洗機是一款利用超聲波高頻率振動對物品進行清洗的原理,主要用于清洗眼鏡、珠寶首飾、鐘表等,并可在機械、紡織、電子、化纖、石...生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW 參考價:面議
產品簡介:生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐,專為生長各種納米線而設計,基片3″快速升溫CVD系統RTP-1000-F3LV 參考價:面議
產品簡介:快速升溫CVD系統RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″)的退火而設計,配有3路流量計和機械泵開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV 參考價:面議
產品簡介:開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合...高真空三溫區CVD系統OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV 參考價:面議
產品簡介:高真空三溫區CVD系統OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道質量流量控制器和高真空機組組成的CVD系統,其爐管直徑為4″,溫度可達1200℃,...高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV 參考價:面議
產品簡介:高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(...高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV 參考價:面議
產品簡介:高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區管式爐、兩路質子混氣系統和高真空機組組成,工作溫度可達1200℃,混氣系統可以對兩種氣體進...帶滑動法蘭三溫區CVD系統OTF-1200X-5-III-F3LV 參考價:面議
產品簡介:帶滑動法蘭三溫區CVD系統OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃,并通過調整三個溫區而建立不同梯度的熱場,可進行退火、擴散、...1700℃兩通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-4-C2HV 參考價:面議
產品簡介:1700℃兩通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-4-C2HV是由單溫區管式爐、兩路質子混氣系統和高真空機組組成,工作溫度可達1600℃,混氣系...1700℃單溫區三通道混氣CVD系統GSL-1700X-F3LV 參考價:面議
產品簡介:1700℃單溫區三通道混氣CVD系統GSL-1700X-F3LV是由單溫區管式爐、三路浮子混氣系統和雙旋片式真空泵組成,工作溫度可達1700℃,混氣系...1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV 參考價:面議
產品簡介:1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極...4路質子混氣管式PECVD系統 參考價:面議
產品簡介:4路質子混氣管式PECVD系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行