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北京亞科晨旭科技有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第6年

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  • TESCAN--場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

    一代的TESCAN--場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡給用戶帶來了的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)（如改進(jìn)的高性能電子設(shè)備使成像過程更快，快速掃描系統(tǒng)包括了動(dòng)態(tài)與靜態(tài)圖像扭曲補(bǔ)償，有內(nèi)置的編程軟件等）...

    型號(hào)： MIRA 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:30:38 對(duì)比
    FE-SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡電鏡
  • 超高分辨雙束FIB

    S8000G是TESCAN新S8000系列掃描電鏡的第yi個(gè)新成員，是yi款超高分辨雙束FIB-SEM系統(tǒng)，它可以提供的圖像質(zhì)量，具有強(qiáng)大的擴(kuò)展分析能力，并能以...

    型號(hào)： FIB-SEM 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:28:11 對(duì)比
    FE-SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡電鏡
  • TESCAN-型超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

    S8000 FE-SEM的優(yōu)點(diǎn)：?新yi代鏡筒內(nèi)電子加速、減速技術(shù)，保證了復(fù)雜樣品的低電壓高分辨觀測(cè)能力?*配置的靜電-電磁復(fù)合物鏡，物鏡無磁場(chǎng)外泄，實(shí)現(xiàn)磁性樣...

    型號(hào)： S8000FE-S... 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:26:14 對(duì)比
    FE-SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡電鏡
  • 型超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡S8000FE-SEM

    追求ji致性能！完成具挑戰(zhàn)性的納米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列掃描電鏡，目前包括：S8000型超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡和S8000G型鎵離...

    型號(hào)： S8000FE-S... 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:24:39 對(duì)比
    FE-SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡電鏡
  • RIE反應(yīng)離子刻蝕

    RIE反應(yīng)離子刻蝕采用模塊化設(shè)計(jì)，可滿足III/V半導(dǎo)體和Si加工工藝領(lǐng)域的的靈活應(yīng)用。 SENTECH SI 591可應(yīng)用于各種領(lǐng)域的蝕刻工藝中，能夠完成多種...

    型號(hào)： SI 591 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:22:12 對(duì)比
    感應(yīng)耦合等離子刻蝕等離子刻蝕RIE
  • 微流控加工設(shè)備：低溫熔融鍵合機(jī)

    EVG810LT是一款主要用于Si-Si直接鍵合和SOI鍵合的預(yù)鍵合系統(tǒng)， 廣泛應(yīng)用于MEMS制造、晶圓級(jí)良好封裝和SOI系統(tǒng)以及化合物半導(dǎo)體等方面。目前，可以...

    型號(hào)： EVG810LT 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:20:18 對(duì)比
    EVG光刻雙面納米壓印鍵合
  • 微流控加工設(shè)備：臨時(shí)鍵合分離機(jī)-EVG805DB

    EVG805DB是一款主要用于薄基片加工領(lǐng)域鍵合分離設(shè)備。廣泛應(yīng)用于存儲(chǔ)器，CMOS，3D-TSV，功率器件（如IGBTs），化合物半導(dǎo)體（如高亮度LEDs或R...

    型號(hào)： EVG805DB 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:18:43 對(duì)比
    EVG光刻雙面納米壓印鍵合
  • ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D

    SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質(zhì)薄膜。可在極低溫度下（ 100ºC）沉積高質(zhì)量SiO2, S...

    型號(hào)： ICP-500D 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:16:56 對(duì)比
    SENPECVD沉積系統(tǒng)SI 500 PPD化學(xué)氣相沉積
  • 微流控工藝設(shè)備：?jiǎn)蚊?雙面光刻機(jī)

    EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域，涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級(jí)線條器件的圖...

    型號(hào)： EVG-610 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:15:18 對(duì)比
    EVG光刻雙面納米壓印鍵合
  • 微流控加工設(shè)備：鍵合機(jī)-EVG501

    納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；&#16...

    型號(hào)： EVG501 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:12:58 對(duì)比
    EVG光刻雙面納米壓印鍵合
  • 微流控-紫外納米壓印設(shè)備

    納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)；光子帶隙...

    型號(hào)： EVG600系列 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:11:02 對(duì)比
    EVG光刻雙面納米壓印鍵合
  • 多功能電子束曝光機(jī) eLINE Plus

    多用途的納米光刻系統(tǒng)eLINE Plus被廣泛用于大學(xué)和研究中心，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對(duì)電子束光刻機(jī)多功能性的要求。除具有專業(yè)的電子束光...

    型號(hào)： eLINE Plu... 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:08:57 對(duì)比
    多功能電子束曝光機(jī)電子束曝光光刻機(jī)
  • 多功能電子束曝光機(jī)

    PIONEERTM集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEERTwo是一個(gè)全新的*的設(shè)備，真正意義上實(shí)現(xiàn)了電子束曝光和...

    型號(hào)： PIONEER&#... 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:07:05 對(duì)比
    多功能電子束曝光機(jī)電子束曝光光刻機(jī)
  • TESCAN 聚焦離子束掃描電鏡-LYRA 3 XMH

    通過參與好的端研究項(xiàng)目，通過和其他電子顯微鏡以及顯微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持續(xù)不斷的改進(jìn)產(chǎn)品以使其保持在微納技術(shù)創(chuàng)新解決方案領(lǐng)域內(nèi)的競(jìng)爭(zhēng)力。本著...

    型號(hào)： LYRA 3 XM... 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:04:58 對(duì)比
    TESCAN聚焦離子束掃描電鏡LYRA 3 XMH離子束刻蝕
  • Bruker原子力顯微鏡AFM

    原子力顯微鏡AFM應(yīng)用：應(yīng)用于科研和工業(yè)界各領(lǐng)域，涵蓋了聚合物材料表征，集成光路測(cè)量，材料力學(xué)性能表征，MEMS制造，金屬/合金/金屬蒸鍍的性質(zhì)研究，液晶材料性...

    型號(hào)： Dimension... 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:02:31 對(duì)比
    原子力顯微鏡Dimension IconFastScanBruker
  • TESCAN 聚焦離子束-掃描電鏡 FERA XM

    FERA3 XM是一款由計(jì)算機(jī)全控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統(tǒng) （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

    型號(hào)： FERA XM 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 12:00:09 對(duì)比
    TESCAN聚焦離子束掃描電鏡FERA電鏡
  • TESCAN 聚焦離子束-掃描電鏡

    FERA3 GM是一款由計(jì)算機(jī)*控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統(tǒng) （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

    型號(hào)： FERA3 GM 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 11:58:12 對(duì)比
    TESCAN聚焦離子束掃描電鏡FERA電鏡
  • TESCAN 聚焦離子束（Xe）掃描電鏡 FERA

    shi jie*個(gè)*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源...

    型號(hào)： FERA 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 11:56:30 對(duì)比
    TESCAN聚焦離子束掃描電鏡FERA電鏡
  • 納米檢測(cè)顯微鏡

    OLS4500是一款集成了光學(xué)顯微鏡、激光顯微鏡和掃描探針掃描顯微鏡（SPM）功能于一體的新型納米檢測(cè)顯微鏡，可以實(shí)現(xiàn)從50倍到高100萬倍的超大范圍的觀察和測(cè)...

    型號(hào)： OLS4500 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 11:54:58 對(duì)比
    OLSOLS4500納米檢測(cè)顯微鏡納米檢測(cè)顯微鏡
  • EVG500系列鍵合機(jī)

    EVG500系列鍵合機(jī)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)...

    型號(hào)： EVG510 所在地：北京市參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/9/25 11:53:05 對(duì)比
    EVG光刻雙面納米壓印鍵合
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